プラズマCVD装置のおすすめメーカーと価格相場

今回の記事では「プラズマCVD装置」の、おすすめメーカーと価格相場について紹介します。

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プラズマCVD装置の種類

プラズマCVD装置とは、基盤上に被膜を形成させるのに使用する産業用の機械です。

CVD装置は熱CVDや光CVD装置がありますが、現在主流となっているのが「プラズマCVD装置」です。

高周波プラズマCVD装置は、工業用周波数13.56MHzの高周波による放電を用いて薄膜を形成する装置です。

真空容器内に基板を設置し、原料となるガスをプラズマ化することにより絶縁性の薄膜を形成することが可能です。

プラズマCVD装置の一般的なモデルとして、電子部品や半導体部品の製造で幅広く利用されています。

高密度プラズマCVD装置は一般モデルよりもプラズマ密度を高めたものです。

工業用周波数は13.56MHz以上でプラズマを高密度にすることにより、低い温度帯でも良質な薄膜形成が可能です。

形成速度も向上しており、一般モデルには困難な液体ガスでの成膜にも対応しています。

グラフェンなどの新材料での成膜や太陽電池の研究開発に利用されています。

マイクロ波プラズマCVD装置は工業用周波数2.45GHzのマイクロ波プラズマを利用した装置になります。

おもにダイヤモンド膜の生成や合成を目的としており、熱伝導率が非常に良い人工ダイヤモンドを使用した半導体材料の開発に利用されています。

宇宙などの厳しい環境下での使用や、電気自動車への応用が期待されており、新しい技術として近年注目されています。

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プラズマCVD装置を扱う主要メーカーは、12社あります。今回の記事ではおすすめの3社を紹介します。

神港精機株式会社は1949年創業の各種真空ポンプおよび精密電気炉、半導体関連機器の製造・販売をおこなうメーカーです。

真空技術や光学技術において、高い技術力とノウハウを活かし、時代のニーズに沿った革新的な製品を世に送り出しています。

世界的な事業展開も積極的におこない、グローバル企業として活躍しています。

出典：ULVAC

株式会社アルバックは1929年創業の産業及び研究向けのさまざまな真空装置の製造・販売や、真空技術全般に関する技術指導をおこなうメーカーです。

主力製品の一種である液晶用スパッタリング装置では世界トップシェアを誇ります。

コーンズテクノロジー株式会社は1990年創業の技術専門商社です。

エレクトロニクス関連機器などの販売・技術支援をはじめ、ダイヤ成膜装置の開発から製造、販売まで手掛けています。

2008年にISO9001を取得し、厳しい品質管理体制から高品質なサービスと製品を提供しています。

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プラズマCVD装置の価格相場は2,000万〜1億円程度です。

一般モデルである高周波プラズマCVD装置は、真空チャンバーや精密制御機器を多数搭載しており、基本的な導入コストは高めに設定されています。
処理量の増加や処理時間の短縮を希望すれば高価格になります。
高密度プラズマCVD装置は一般モデルよりハイクラスモデルとして高価格になります。
一般モデル同様に機能の追加で高価格になる傾向があります。
マイクロ波プラズマCVD装置は実験装置として2,000万〜5,000万程度が価格相場となっています。

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