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半導体露光装置の価格相場 EUVは数百億円クラス
半導体露光装置の価格相場は数億円〜数百億円程度です。光源の波長が短くなるほど高価になります。i線が数億円、KrFやArFが数十億円、EUVが数百億円です。液浸露光は数十億円高くなります。ステッパーよりスキャナーのほうが高価です。
半導体露光装置の種類 EUVが最先端
半導体露光装置とは、ウエハに回路パターンを焼き付ける露光工程で使用する産業用の機械です。回路パターンが描かれたフォトマスク（レチクル）に光源を当て、その像を投影レンズで縮小してウエハに焼き付けます。
光源の波長が短いほど解像度が上がり、より微細な回路パターンを描けます。最先端の光源は「EUV(13.5nm)」です。一般的には「ArFエキシマレーザー（193nm）」「KrFエキシマレーザー（248nm）」「i線（365nm）」が使われています。
投影レンズとウエハの間を純水で満たす「液浸露光」という技術を使えば、ArFエキシマレーザー（193nm）でも134nmの波長に値する解像度が実現可能です。
分類としては大きく2つに分けられ、以下のような違いがあります。
ステッパー方式：
フォトマスク（レチクル）の全面に光源を当て、チップ1枚ずつ写真を撮るように回路パターンを焼き付けます。投影レンズに内接する四角形で照射するので、露光面積が狭くなります。レンズを幅広く使うため歪みが多く、解像度が低いです。価格は比較的安いです。
スキャナー方式：
細長いスリットを通してフォトマスク（レチクル）に光源を当てます。フォトマスク（レチクル）とウエハを反対方向に動かして、チップ1枚ずつスキャンするように回路パターンを焼き付けます。投稿レンズの直径で照射するので、露光面積が広くなります。レンズの中央部分を使うため歪みが少なく、解像度が高いです。価格も高くなります。
半導体露光装置を製造するおすすめメーカー
半導体露光装置を扱う主要メーカーは、10社ほどあります。その中でもおすすめのメーカーを2社ご紹介します。
株式会社ニコン（Nikon）
1917年設立の光学機器メーカー。半導体露光装置はArFの液浸スキャナーをはじめ、液浸ではないドライのArFスキャナーやKrFスキャナー、i線ステッパーをラインナップしています。ドライのArFは世界トップシェアです。
キヤノン株式会社（Canon）
1937年設立の精密機器メーカー。半導体露光装置はKrFのスキャナーやステッパー、i線ステッパーを取り揃えています。KrFとi線はどちらも世界トップシェアです。近年は、露光で回路パターンを焼き付けるのではなく、型で回路パターンを形成する「ナノインプリントリソグラフィ技術」の開発に力を入れています。
半導体露光装置の選び方
約7nm以下の超微細な回路パターンが要求されるなら最先端のEUVが必要です。オランダのASMLのみが提供しています。7〜40nm程度ならArFの液浸露光で対応可能です。そこまでの微細さが求められない場合は、コストやスループットに応じてドライのArFやKrF、i線を選択します。
半導体露光装置のまとめ
- 半導体露光装置は、ニコンやキヤノンといったメーカーが製造している。
- 価格相場は非公開ながらも数億円～数百億円と想定される